稀土拋光粉生產原料

目前，我國生產鈰系稀土拋光粉的原料有下列幾種：

（1） 氧化鈰 (CeO2) ，由混合稀土鹽類經分離后所得 (w(CeO2)=99%);；

（2） 氫氧化稀土 ( 富鈰)：混合稀土氫氧化物 (RE(OH)3) ，為稀土精礦 (w(REO)≥50%) 化學處理后的中間原料 (w(REO)=65% ， w(CeO2)≥48%)；

（3） 稀土鹽類：混合氯化稀土 (RECl3) ，從混合氯化稀土中萃取分離得到的少銪氯化稀土 ( 主要含 La ， Ce ， Pr 和 Nd ，w(REO)≥45% ， w(CeO2)≥50%)，包括氯化稀土、草酸稀土、碳酸稀土等；

（4） 單氟碳鈰礦：高品位稀土精礦 (w(REO)≥60% ， w(CeO2)≥48%) ，有內蒙古包頭混合型稀土精礦，山東微山和四川冕寧的氟碳鈰礦精礦。

以上原料中除第 1 種外，第 2 ， 3 ， 4 種均含輕稀土 (w(REO)≈98%) ，且以 CeO2 為主， w(CeO2) 為48% ～ 50% 。

稀土拋光粉生產制備工藝流程介紹

一般制備工藝流程

按制備工藝，稀土拋光粉的生產制備工藝流程可細分為兩大類：

1、以稀土精礦或鈰富集物為原料的固相反應法

      由礦石直接制備拋光粉可省掉繁雜的化學提取過程，而使生產成本大大降低。氟碳鈰礦石（用REO＞68％的稀土精礦）粉碎、分級、化學處理、過濾、干燥、900℃以上煅燒、粉碎、分級、混合得含 CeO2 50％左右的氟碳鈰礦系拋光粉，礦中的氟和硅對于產品的拋光效果起著重要作用。這種以氟碳鈰礦為原料直接煅燒生產稀土拋光粉，無需合成中間體，制備工藝簡單，雖然生產成本大大降低，但所得稀土拋光粉的檔次不高。

2、以稀土可溶鹽為原料的煅燒沉淀法

      在沉淀法中，可以有多種途徑，也更適合于通過調配化學組份來提高拋光性能，如加入氟硅酸進行共沉淀生產的拋光粉，加入硅灰石的高硅含量拋光粉等等。還可以通過控制技術條件來達到控制產品粒度的目的。如以氯化稀土為原料制取稀土拋光粉，經加入沉淀劑合成中間體等化學處理、烘干、煅燒、分級、加工得到產品。

     由氯化稀土用不同的中間體制備拋光粉的方法有很多，如堿式鹽法、草酸鹽法 、碳酸鹽法 、氫氧化物、硫酸復鹽等。

（1）   氯化稀土用水溶解得氯化稀土溶液，用堿和氧化劑處理得氫氧化鈰 ，再用酸處理得鈰濃縮液，加入沉淀劑得沉淀物，經過于燥、煅燒、粉碎和分級、混合得到含 CeO2 80％一90％的氯化鈰系拋光粉。

（2）   采用氯化稀土或分離后的鈰富集物為原料，生產的稀土拋光粉質量好，但生產工序多，成本高。一般用硫酸銨、草酸、碳酸鈉或碳酸氫銨及氨水作沉淀劑，經過煅燒、分級、過濾、烘干等步驟制得的拋光粉，CeO2片含量在 45％ 一55％左右，煅燒溫度為 850 —950℃，煅燒時間為 2．5 —3h。但不同沉淀劑制備的拋光粉性能不同，其中以用硫酸銨作沉淀劑，經過堿化、氟硅酸氟化后所制得的拋光粉其拋蝕量，而以用碳酸氫銨及氨水作為沉淀劑、加水煮沸、氟硅酸氟化后所制得的拋光粉其拋蝕量差。

（3）   以輕稀土氯化物為原料，以硅氟酸及碳酸氫銨為沉淀劑得稀土氟碳酸鹽沉淀、水洗、過濾、煅燒、篩球磨分等步驟。所制得的產品顆粒細、均勻、化學活性強、拋光效率高、應用領域廣。

（4）   以碳酸稀土混合物(Ce02含量在45％左右)為原料制備高鈰拋光粉工藝：碳酸稀土混合物經過煅燒生成氧化稀土，用酸處理得到 CeO (oH )2沉淀和三價稀土溶液，洗滌 CeO(OH)2沉淀、干燥、煅燒可得到 Ce02含量 98 —99％的高鈰拋光粉，表面積 3—5m2／g，平均粒徑1．5 —2um ，相對其它拋光粉有拋光能力，達到320mg／30m in。

相關制備工藝流程參考如下：

稀土鹽類中碳酸稀土為原材料，生產制備稀土拋光粉流程：

按高、中、低CeO2含量區分鈰系稀土拋光粉生產制備工藝流程

1、高鈰系稀土拋光粉

主要以 稀土混合物分離后的氧化鈰（如以“氯化稀土”分離）或以“氟碳鈰礦”的中間產物,富鈰富集物為初始原料，以物理化學方法加工成硬度大，粒度均勻、細小，呈面心立方晶體的粉末產品。

其主要工藝過程為 :

原料 → 高溫 → 煅燒 → 水淬 → 水力分級 → 過濾 → 烘干 → 高級鈰系稀土拋光粉產品。

主要設備有 : 煅燒爐，水淬槽，分級器，過濾機，烘干箱。

2、中鈰系稀土拋光粉

用混合稀土氫氧化物 (w(REO)=65%，w(CeO2)≥48%) 為原料，以化學方法預處理得稀土鹽溶液，加入中間體 ( 沉淀劑 ) 使轉化成w(CeO2)=80% ～ 85% 的中級鈰系稀土拋光粉產品。

其主要工藝過程為 :

原料 → 氧化 → 優溶 → 過濾 → 酸溶 → 沉淀 → 洗滌過濾 → 高溫煅燒 →細磨篩分 → 中級鈰系稀土拋光粉產品。

主要設備有 : 氧化槽，優溶槽，酸溶槽，沉淀槽，過濾機，煅燒爐，細磨篩分機及包裝機。

3、低鈰系稀土拋光粉

主要為“氯化稀土、氟碳鈰礦和少銪氯化稀土(w(REO)≥45% ， w(CeO2)≥48%)，以及近年來采用少釹碳酸稀土為原料，以合成中間體 ( 沉淀劑 ) 進行復鹽沉淀等處理，可制備低級鈰系稀土拋光粉產品。

其主要工藝過程為 :

原料 → 溶解 → 復鹽沉淀 → 過濾洗滌 → 高溫煅燒 → 粉碎 → 細磨篩分 → 低級鈰系稀土拋光粉產品。

主要設備有 : 溶解槽，沉淀槽，過濾機，煅燒爐，粉碎機，細磨篩分機。

    另外，用混合型的氟碳鈰礦高品位稀土精礦(w(REO)≥60% ， w(CeO2)≥48%) 為原料，直接用化學和物理的方法加工處理，如磨細、煅燒及篩分等可直接生產低級鈰系稀土拋光粉產品。

其主要工藝過程為 :

原料 → 干法細磨 → 配料 → 混粉 → 焙燒 → 磨細篩分 → 低級鈰系稀土拋光粉產品。

主要設備有 : 球磨機，混料機，焙燒爐，篩分機等。